안녕하세요. 클린룸 넘버원, (주)에이치엔에스입니다.

반도체를 만드는 공정에서 가장 많이 사용하는 가스 중 하나가 바로 질소가스입니다. 질소가스는 클린룸에 설치되어 있는 장비들의 배관 및 챔버 내부를 정화하는 가스로 많이 활용됩니다. 또한 반도체 생산과정에서 자연 산화막의 성장을 억제하기 위한 용도로도 활용되고 있습니다. 그만큼 반도체 생산에 반드시 필요한데요. 오늘은 AP시스템 공장에 클린룸 구축 현장에서 시공한 질소가스 배관과 함께 질소가스의 역할에 대해 살펴보도록 하겠습니다.

반도체 생산에서 질소의 역할

산화 방지

반도체 제조 과정에서는 매우 민감한 재료들이 사용되며, 이 재료들은 공기 중의 산소와 쉽게 반응하여 산화될 수 있습니다. 질소는 반응성이 낮은 기체로, 제조 과정 중 환경을 질소로 채워 산소와의 반응을 방지하고 재료의 산화를 막는 데 사용됩니다.

불순물 제거

제조 과정 중에는 반도체 표면에 불순물이 달라붙거나 반응할 수 있습니다. 질소를 사용하여 공정 환경을 퍼징(purging)함으로써, 이러한 불순물을 제거하거나 최소화할 수 있습니다.

습도 조절

질소는 건조한 성질을 가지고 있어 제조 환경 내의 습도를 조절하는 데 사용됩니다. 반도체 제조 과정에서 습도는 매우 중요한 요소로, 과도한 습도는 재료의 손상이나 불량률 증가를 초래할 수 있습니다.

안전한 환경 조성

질소는 불활성 기체로, 반도체 제조 과정에서 사용되는 인화성 물질을 다룰 때 화재나 폭발 위험을 줄이는 데 도움을 줍니다. 캐리어 가스로서의 역할: 질소는 반도체 제조 과정에서 화학 물질을 반응 부위로 안전하게 운반하는 캐리어 가스로도 사용됩니다. 이는 특히 화학 기상 증착(CVD) 과정과 같은 화학 반응에서 중요합니다.

*자세한 내용은 공식 블로그에서 확인해 보세요.